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等離子清洗機原理

更新時間:2020-03-16

簡要描述:

等離子清洗機原理是什麽?等離子清洗機主要用於以下實驗:材料清潔和活化、灰化表麵有機層 有機物去除、鍵合、改變親水性/疏水性 、金屬還原、表麵刻蝕、材料老化實驗、去膠、等離子塗鍍聚合等各方麵。

等離子清洗機原理
等離子清洗機原理
什麽是等離子體:
等離子體是物質的一種存在狀態,通常物質以固態、液態、氣態三種狀態存在,但在一些特殊情況下可以以第四種狀態存在,如太陽表麵的物質和地球大氣中電離層中的物質。這類物質所處的轉態稱為等離子體轉態,又稱為物質的第四態。
在等離子體中存在下列物質,處於高速運動轉態的電子,處於激發轉態的中性原子、分子、原子團(自由基);離子化的原子、分子、分子解離反應過程中生成的紫外線,未反應的分子,原子等,但物質在總體上仍保持電中性狀態。

真空等離子清洗機技術原理:

真空等離子清洗機技術原理


等離子體是氣體分子在真空、放電等特殊場合下產生的物質。等離子清洗/刻蝕產生等離子體的裝置是在密封容器中設置兩個電極形成電磁場,用真空泵實現一定的真空度,隨著氣體越來越稀薄,分子間距及分子或離子的自由運動距離也越來越長,受磁場作用,發生碰撞而形成等離子體,同時會發生輝光。等離子體在電磁場內空間運動,並轟擊被處理物體表麵,從而達到表麵處理、清洗和刻蝕的效果。

等離子清洗機工作原理分析:電漿與材料表麵可產生的反應主要有兩種,一種是靠自由基來做化學反應,另一種則是靠等離子作物理反應。
(1)化學反應
在化學反應裏常用的氣體有氫氣(H2)、氧氣(O2)、甲烷(CF4)等,這些氣體在電漿內反應成高活性的自由基,其方程式為:這些自由基會進一步與材料表麵作反應。其反應機理主要是利用等離子體裏的自由基來與材料表麵做化學反應,在壓力較高時,對自由基的產生較有利,所以若要以化學反應為主時,就必須控製較高的壓力來近進行反應。
(2)物理反應
主要是利用等離子體裏的離子作純物理的撞擊,把材料表麵的原子或附著材料表麵的原子打掉,由於離子在壓力較低時的平均自由基較輕長,有得能量的累積,因而在物理撞擊時,離子的能量越高,越是有的作撞擊,所以若要以物理反應為主時,就必須控製較的壓力下來進行反應,這樣清洗效果較好,為了進一步說明各種設備清洗的效果。
等離子體清洗機的機理,主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達到去除物體表麵汙漬的目的。就反應機理來看,等離子體清洗通常包括以下過程:無機氣體被激發為等離子態;氣相物質被吸附在固體表麵;被吸附基團與固體表麵分子反應生成產物分子;產物分子解析形成氣相;反應殘餘物脫離表麵。
 

等離子清洗機技術特點:

1.艙體、管路、閥體全部為不鏽鋼材料,耐用、防腐容易清潔。

2.儀器實現了手動,自動兩種模式任意切換的工作方式,方便用戶實驗

3.儀器實現了程序化設計,預先編輯好程序,儀器可以自動完成實驗

4.無需任何耗材使用成本低,無需特殊進行維護,日常使用保持儀器清潔即可

5.電容式等離子激發,處理效果均勻,激發電極板內置樣品倉內頂部懸掛

6.密閉真空環境下完成實驗避免二次汙染

7.40Khz射頻電源,自主研發質量穩定可靠,具有自動保護功能。

8.靈活的參數設置和修改功能,可適應多種處理工藝。

9.采用皮拉尼真空技術,實時檢測和顯示樣品倉的真實真空度,具有1Pa的真空分辨率,能夠方便的接入MFC氣體流量控製儀,實現對氣體流量和真空度的精準控製和監測。

10. LED+金屬按鍵控製方式,操作方便穩定可靠。

射頻(RF)等離子清洗機技術規格參數

型號:YZD08-2C

品牌:草莓在线观看(SAT)

不鏽鋼/石英艙體

Φ100 mm×L255mm

工作氣路

壹路,可以選配MFC控製

射頻頻率

40KHz

射頻功率

0-200W可調

控製係統

按鈕+單排LED顯示,實時顯示和檢測艙內真空度值

時間範圍

0—99分59秒連續可調

工作壓力

樣品倉內200Pa以內根據進氣量自動調節

工作氣體

空氣、氧氣、氮氫混合氣、氬氣、氮氣及其他惰性氣體與混合氣體均可

進氣壓力

空氣:常壓     連接氣體鋼瓶:0.1-0.3Mpa

工作模式

手動模式和程序化自動模式

真空泵

抽速:1升到5升每秒

輸入電源

~220V/50Hz

整機尺寸(D*W*H)

520X460X253mm

重量(約)

20Kg

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